Horno de elevación de alta temperatura TT-LF-321-1800C

Producto principal

El horno de elevación de alta temperatura TT-LF-321-1800C, con una temperatura máxima de 1800 °C, está diseñado específicamente para su uso en universidades, institutos de investigación, plantas de fabricación y laboratorios industriales. Diseñado para ofrecer fiabilidad y precisión, admite procesos térmicos avanzados en una amplia gama de aplicaciones.

Este horno es ideal para manipular materiales avanzados como metales, cerámica, nanomateriales y semiconductores. Además, es ideal para laboratorios dentales, ya que proporciona un rendimiento de sinterización preciso y uniforme para prótesis dentales en la industria de las prótesis dentales.

  • Materiales cerámicos avanzados Permite la sinterización y densificación a alta temperatura de cerámicas electrónicas, estructurales y funcionales. Ofrece una excelente estabilidad térmica y resistencia mecánica, lo que lo hace ideal tanto para I+D como para aplicaciones industriales.

  • Materiales magnéticos y electrónicos Facilita la sinterización precisa de materiales magnéticos, objetivos de ITO y cerámica electrónica. Garantiza una distribución uniforme de la temperatura, crucial para un rendimiento magnético y electrónico estable.

  • Investigación de nanomateriales Proporciona un tratamiento térmico preciso y consistente para nanoestructuras y materiales compuestos. Apoya la I+D avanzada en electrónica, catálisis, recubrimientos y almacenamiento de energía.

  • Procesamiento de semiconductores Ideal para procesos de recocido, difusión y oxidación a temperaturas ultraaltas. Garantiza un control preciso en la fabricación de microelectrónica, obleas semiconductoras y dispositivos optoelectrónicos.

  • Metalurgia de polvos y aleaciones avanzadas Proporciona una sinterización fiable de metales en polvo y sistemas de aleaciones avanzadas para obtener componentes densos y de alto rendimiento. Facilita la producción de geometrías complejas en la fabricación a escala de laboratorio.

  • Prótesis Dentales Ideal para laboratorios dentales que requieren una sinterización precisa y consistente de prótesis dentales y cerámicas dentales avanzadas. Garantiza resultados repetibles con una integridad estructural superior.

  • Universidades e institutos de investigación Ampliamente utilizado en programas de investigación académica en física, química y ciencia de materiales. Ofrece versatilidad, seguridad y flexibilidad de programación para la docencia y el trabajo experimental.

  • I+D industrial y Quality Control Facilita las pruebas, la certificación y la validación de materiales de alto rendimiento en condiciones térmicas extremas. Proporciona resultados fiables para industrias que exigen el cumplimiento de las normas ISO, CE y SGS.

Carcasa del horno

  • Construido con acero con bajo contenido de carbono Q235, con una superficie resistente a la corrosión y a la electrostática.
  • El diseño duradero del tanque de metal garantiza bajas temperaturas de la superficie externa durante el funcionamiento.
  • La puerta del horno incluye una estructura sellada con brida con compresión de tornillo manual y un diseño de apertura lateral para facilitar el acceso y la operación.

Material refractario

  • Sistema de aislamiento multicapa fabricado con fibra cerámica de alúmina ligera y paneles aislantes de primera calidad. El aislamiento no contiene amianto, ofrece una excelente eficiencia térmica, mínima pérdida de calor y un consumo energético reducido.

Sistema de calefacción

  • Equipado con elementos calefactores de resistencia de alta calidad que proporcionan un calentamiento radiante eficiente dentro de la cámara para una confiabilidad a largo plazo.
  • Los elementos calefactores de tipo anillo circundantes garantizan una distribución uniforme de la temperatura en todo el horno.
  • Las características opcionales incluyen un puerto de escape montado en la parte superior y una entrada de aire inferior con flujo ajustable.
  • La plataforma inferior admite contenedores de carga apilables, lo que permite la carga de múltiples capas según la configuración del horno.

Panel de control de temperatura

  • Controlador PID con salida SSR/SCR para una regulación de temperatura de alta precisión.
  • Utiliza un termopar de alta durabilidad estandarizado internacionalmente para obtener lecturas consistentes.

Controlador de programa

  • Controlador avanzado diseñado para manejar procesos de calentamiento complejos.
  • Interfaz fácil de usar con programación flexible e intuitiva.
  • Admite hasta 30 segmentos programables por curva.
  • Incluye alarmas de sobretemperatura y falla del sistema con apagado automático de seguridad.

Horno de elevación de alta temperatura TT-LF-321-1800C
Horno de elevación de alta temperatura TT-LF-321-1800C
Horno de elevación de alta temperatura TT-LF-321-1800C

Modelo del Producto

Tamaño de la cámara (mm)

Volumen

Temperatura maxima

Temperatura de funcionamiento

VOLTIOS

Energía

Elemento de calefacción

Exactitud del control de temperatura

TT-LF-120-1200Φ120 × 1202L1200 ℃1100 ℃220 V (también disponible en 110 V)2KWHRE± 1 ℃
TT-LF-150-1200Φ150 × 1503L1200 ℃1100 ℃220 V (también disponible en 110 V)3KWHRE± 1 ℃
TT-LF-200-1200Φ200 × 2006L1200 ℃1100 ℃220 V (también disponible en 110 V)4KWHRE± 1 ℃
TT-LF-300-1200Φ300 × 30020L1200 ℃1100 ℃380V6KWHRE± 1 ℃
TT-LF-120-1400Φ120 × 1202L1400 ℃1350 ℃220 V (también disponible en 110 V)3KWSIC± 1 ℃
TT-LF-150-1400Φ150 × 1503L1400 ℃1350 ℃220 V (también disponible en 110 V)4KWSIC± 1 ℃
TT-LF-200-1400Φ200 × 2006L1400 ℃1350 ℃220 V (también disponible en 110 V)5KWSIC± 1 ℃
TT-LF-300-1400Φ300 × 30020L1400 ℃1350 ℃380V6KWSIC± 1 ℃
TT-LF-120-1700Φ120 × 1202L1700 ℃1600 ℃220 V (también disponible en 110 V)3KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-150-1700Φ150 × 1503L1700 ℃1600 ℃220 V (también disponible en 110 V)4KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-200-1700Φ200 × 2006L1700 ℃1600 ℃220 V (también disponible en 110 V)4KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-300-1700Φ300 × 30020L1700 ℃1600 ℃380V8KWMoSi2± 1 ℃

Solicitud de Cotizacion

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