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Recubridores por pulverización / Sistemas de recubrimiento al vacío - Recubrimiento por pulverización catódica/evaporador térmico de doble magnetrón y alto vacío - DST2-TG

Evaporador térmico/recubrimiento por pulverización catódica objetivo de doble magnetrón y alto vacío - DST2-TG

El recubridor por pulverización catódica/evaporador térmico de doble magnetrón y alto vacío DST2-TG, o el recubridor por pulverización catódica con bombeo turbo de doble objetivo y el evaporador térmico, es un sistema de recubrimiento de vanguardia que combina a la perfección la evaporación térmica y el recubrimiento por pulverización catódica en una sola unidad de escritorio compacta. . Esta tecnología versátil ofrece control remoto del sistema a través de una cómoda conexión Wi-Fi, lo que permite a los usuarios gestionar las operaciones sin esfuerzo a través de una pantalla táctil fácil de usar o de su PC.

Diseñado para funcionar en un entorno de alto vacío, este sistema está preparado para depositar una amplia gama de materiales, lo que lo convierte en una opción ideal para diversas aplicaciones de recubrimiento. El recubridor por pulverización catódica de escritorio con objetivo de doble magnetrón ofrece la flexibilidad de cambiar sin problemas entre evaporación y deposición por pulverización catódica, lo que facilita la creación de complejos recubrimientos multicapa.

Experimente el epítome de la eficiencia y la precisión con el DST2-TG, una solución todo en uno que revoluciona los procesos de recubrimiento dentro de una caja de guantes.

Los sistemas de guanteras crean un entorno seguro para materiales delicados, evitando la exposición al aire, la humedad y las interacciones no deseadas. El sistema de recubrimiento de alto vacío DST2-TG integrado con una caja de guantes garantiza un manejo limpio y seguro de los sustratos antes o después del proceso de deposición, todo dentro de una atmósfera de gas inerte. Esta configuración proporciona un entorno de cámara controlado con precisión, lo que permite la deposición precisa de capas delgadas ultrapuras en condiciones de alto vacío.

El DST2-TG, un recubridor por pulverización catódica de escritorio con magnetrón de última generación, viene con una cámara espaciosa (300 mm de diámetro) y dos cátodos enfriados por agua de 2” de diámetro, lo que lo hace ideal para períodos de deposición prolongados. Este sistema versátil sirve como una plataforma única para pulverización catódica, deposición de fibra de carbono y evaporación de metales. Diseñado específicamente para uso en guanteras, el recubridor por pulverización catódica de escritorio puede pulverizar eficazmente semiconductores, dieléctricos y objetivos metálicos. Los usuarios tienen la flexibilidad de instalar cátodos de pulverización catódica y botes de evaporación térmica de manera intercambiable o simultánea, brindando acceso a un total de tres fuentes de deposición. Además, la deposición de carbono se puede lograr mediante la utilización de fibra de carbono, lo que amplía la gama de materiales de deposición disponibles.

Recubridor por pulverización de escritorio

Este sistema de revestimiento al vacío de alta precisión está diseñado para ser semi o totalmente automatizado y cuenta con un panel de pantalla táctil a color de 7” fácil de usar para controlar y ajustar los datos del proceso de deposición. La interfaz de software intuitiva simplifica la operación. Los usuarios también pueden acceder a la ventana del panel de control en su PC a través de una conexión Wi-Fi. El sistema permite monitorear los niveles de vacío y la información de la secuencia de recubrimiento, que se puede mostrar como datos digitales o curvas en la pantalla táctil. Además, los últimos 300 recubrimientos se guardan y son accesibles en la página de historial del sistema.

Recubridor por pulverización de escritorio

Producto: Recubridor al vacío con pantalla táctil DST2-TG

El recubridor por pulverización catódica y el evaporador térmico para aplicaciones en cajas de guantes se pueden mejorar con instalaciones opcionales, que incluyen:

  • Fuente de alimentación RF con una caja de adaptación autoajustable para minimizar la potencia reflejada en el proceso de pulverización catódica de RF.
  • Limpiador de plasma para eliminar eficazmente la materia orgánica de la superficie del sustrato antes de la deposición de una película fina.
  • Recubridor por pulverización de escritorio

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  • Fusión de un recubridor por pulverización catódica y un evaporador térmico diseñado para montaje en guantera
  • Equipado con una bomba turbomolecular incorporada para un rendimiento de vacío eficiente
  • Cámara espaciosa con un diámetro de 30 cm y un rango de altura de 20-25 cm
  • La instalación del objetivo es fácil y rápida; no se requiere portaobjetos
  • Conducción de calor mejorada facilitada por objetivos con placas de respaldo
  • Portamuestras diseñado para rotación, lo que promueve un recubrimiento uniforme
  • Pasamuros KF40 montados en la guantera para fuentes de alimentación (CC, RF, alta corriente), manguera de bomba de vacío, refrigeración por agua, conexiones de argón/gas reactivo y conexiones eléctricas.
  • Control preciso de la inyección de gas a través de controladores de flujo másico (MFC)
  • Incorpora dos sensores de espesor de cristal de cuarzo de alta precisión para un control preciso del espesor de la película.
  • Los productos Vac Coat están cubiertos globalmente por un seguro integral de responsabilidad civil y pública del producto, que brinda garantía contra daños a la propiedad o lesiones personales resultantes del uso de los sistemas Vac Coat.
  • Funciones de automatización:

  • Proceso de recubrimiento semicompletamente automático (opcional): El sistema ofrece la flexibilidad de los procesos de recubrimiento automatizados o semiautomáticos, lo que permite a los usuarios elegir el nivel de automatización según sus necesidades.
  • Entrada y almacenamiento de datos eficiente: Entrada rápida de datos para los parámetros del proceso de deposición, mejorando la eficiencia del flujo de trabajo. Almacenamiento seguro de los datos del proceso de deposición para una fácil recuperación y referencia.
  • Control remoto de procesos: El proceso de deposición se puede controlar y monitorear de forma remota a través de una PC a través de una conexión Wi-Fi, lo que ofrece comodidad y flexibilidad.
  • Almacenamiento de recetas de recubrimiento: Capacidad para almacenar recetas de recubrimiento, lo que permite replicar procesos de deposición específicos para obtener resultados consistentes y repetibles.
  • Persianas electrónicas: Incorporación de obturadores electrónicos para un control preciso sobre el proceso de recubrimiento y para gestionar la exposición del sustrato durante la deposición.
  • Selección automatizada de cátodos: Selección automatizada de cátodos, agilizando el proceso y asegurando condiciones óptimas de deposición en función de los requisitos del material.
  • Instalaciones opcionales:

  • Sputtering de RF para la deposición de objetivos no conductores (opcional): Integración de la capacidad de pulverización catódica de RF para facilitar la deposición de objetivos no conductores, ampliando la gama de materiales que se pueden recubrir.
  • Limpiador de plasma (opcional): Opción de incluir un limpiador de plasma para la eliminación efectiva de la materia orgánica de la superficie del sustrato antes de la deposición de una película delgada, lo que garantiza un sustrato limpio para una calidad de recubrimiento superior.
  • Formulario de cotización
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