Recubridores por pulverización / Sistemas de recubrimiento al vacío - Recubridor por pulverización catódica de alto vacío y evaporador térmico/de carbón – DSCT-T
Recubridor por pulverización catódica de alto vacío y evaporador térmico/de carbón – DSCT-T
El recubridor por pulverización catódica de alto vacío y el evaporador térmico/de carbono DSCT-T están diseñados como un instrumento versátil para la preparación de muestras mediante microscopio electrónico de barrido (SEM). Cuenta con tres cabezales intercambiables, lo que le permite funcionar como recubridor por pulverización catódica, recubridor de carbón y evaporador térmico en una sola unidad. Este sistema es capaz de depositar una amplia gama de materiales, incluidos oro (Au), aleación de platino/paladio (Pt/Pd), plata (Ag), cromo (Cr), tungsteno (W), iridio (Ir) y más. .
Además, el cabezal térmico de este recubridor SEM de alto vacío también se puede utilizar para limpiar aberturas TEM y SEM. Equipada con una bomba turbomolecular, esta recubridora es capaz de producir películas uniformes de alta calidad con tamaños de grano fino. Estos atributos lo hacen adecuado para muestras que exigen una caracterización de alta resolución y alta calidad, incluidos FE-SEM, EDS/WDS, TEM y EBSD.
El DSCT-T, conocido como recubridor por pulverización y evaporador térmico/de carbono, viene con un cátodo de magnetrón de 2”, una fuente de alimentación CC conmutada de alto voltaje para pulverización catódica y una fuente de alimentación de alta corriente para evaporación de carbono y evaporación térmica. Es una herramienta valiosa para la investigación y diversas aplicaciones de películas delgadas en campos como la micro y nanoelectrónica y la preparación de muestras.
Evaporación de carbono de DSCT-T
El sistema de recubrimiento de tamaño pequeño, modelo DSCT-T (DSCT con evaporador térmico), es capaz de recubrir con carbono para producir películas delgadas uniformes en varias superficies utilizando fibra de carbono (u, opcionalmente, una varilla de carbono). Al pasar una corriente eléctrica a través de la fibra de carbono, ya sea en modo pulsado o flash, la evaporación del carbono se deposita sobre la muestra. Este proceso reduce efectivamente la cantidad de desechos típicamente asociados con los métodos tradicionales de deposición de carbono.
Evaporación Térmica
El DSCT-T, el recubridor por pulverización catódica y el evaporador térmico/de carbono vienen equipados con un cabezal térmico diseñado para la evaporación de metales con bajas temperaturas de evaporación, como oro, aluminio, plata y más. Este cabezal térmico tiene un doble propósito: permite la deposición de estos metales y facilita la limpieza de las aberturas TEM (microscopía electrónica de transmisión).
El proceso de evaporación térmica se adapta a una variedad de aplicaciones. Por ejemplo, se puede utilizar en la fabricación de películas metálicas, la producción de sensores de película delgada, la fabricación de componentes ópticos y satisfacer las necesidades de las industrias nano y microelectrónica, así como en aplicaciones de células solares.
Etapas de muestra
El DSCT-T ofrece la flexibilidad de varias configuraciones de etapa de muestra para satisfacer los requisitos específicos del usuario. Estas plataformas de muestra están diseñadas para ser giratorias y ajustables en altura, lo que proporciona facilidad de uso y adaptabilidad. Para lograr un recubrimiento uniforme en muestras porosas, está disponible y es muy recomendable la opción de un sistema de rotación planetaria de muestra.
Opciones y accesorios
El Desk Sputter Coater – DSCT-T ofrece una gama de opciones y accesorios para mejorar sus capacidades:
¿Cómo podemos ayudarle?
Póngase en contacto con nuestro equipo de ventas para obtener una cotización.
