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Recubridores por pulverización / Sistemas de recubrimiento al vacío - Recubrimiento por pulverización catódica de escritorio con triple magnetrón y alto vacío - DST3-A/S

Recubrimiento por pulverización catódica de escritorio con triple magnetrón y alto vacío - DST3-A/S

El recubridor por pulverización catódica de escritorio con triple magnetrón y alto vacío DST3-A/S es un sistema versátil de recubridor al vacío de múltiples objetivos, que presenta bombeo turbomolecular, adecuado para depositar una amplia gama de materiales. Viene con una cámara espaciosa con un diámetro de 300 mm y está equipada con tres cátodos refrigerados por agua de 2” de diámetro, lo que permite períodos de deposición prolongados.

Este recubridor por pulverización de escritorio con objetivo de triple magnetrón está bien equipado con fuentes de alimentación de RF y CC, lo que le permite pulverizar eficazmente semiconductores, dieléctricos y diversos objetivos metálicos, incluidos metales oxidantes y nobles. Para optimizar el proceso de pulverización catódica de RF, el sistema incluye una caja de coincidencia autoajustable, que minimiza la potencia reflejada.

Para mejorar la adhesión de la película al sustrato y mejorar las estructuras de la película, también existe una característica opcional que permite la aplicación de un voltaje de polarización de 300 V CC al sustrato.

Dependiendo del estado de los cátodos, el DST3 se ofrece en dos modelos distintos.

DST3-A (cátodos en ángulo):

El DST3-A presenta tres cátodos en ángulo que comparten un punto focal común. Esta configuración permite la pulverización simultánea de dos o tres objetivos (opcionales), lo que permite la formación de aleaciones o deposiciones multicapa. En este modelo, el tamaño máximo del sustrato es de 3 pulgadas.

Recubridor por pulverización de escritorio

DST3-S (Cátodos Rectos):

El modelo DST3-S está equipado con tres cátodos rectos de 2 pulgadas refrigerados por agua y está diseñado para pulverizar una sola muestra grande con un diámetro de hasta 20 cm o varias muestras más pequeñas.

Recubridor por pulverización de escritorio
  • Películas metálicas, semiconductoras y dieléctricas.
  • Aplicaciones nano y microelectrónica
  • Desarrollo de células solares
  • Procesos de co-sputtering
  • Técnica de pulverización GLAD
  • Recubrimiento de componentes ópticos.
  • Fabricación de sensores de película delgada.
  • Producción de dispositivos magnéticos de película delgada.
  • Deposición estructural de grano fino para preparación de muestras SEM y FE-SEM
  • ¿Cómo podemos ayudarle?

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    hardware:

  • Alto nivel de vacío con bomba turbo incorporada
  • Equipado con fuentes de alimentación de CC y RF opcionales adecuadas para metales, semiconductores y dieléctricos.
  • Tres cátodos de magnetrón en ángulo refrigerados por agua de 2 pulgadas adecuados para producir películas de aleación (DST3-A) y deposición multicapa
  • Platina portamuestras grande (8 pulgadas) para el modelo DST3-S
  • Máscara catódica diseñada para deposición uniforme sobre sustratos grandes (DST3-S)
  • Dos sistemas de monitoreo de cristal de cuarzo fijos y móviles para medición de espesor en tiempo real (precisión de 1 nm)
  • Control de inyección de gas a través de dos controladores de flujo másico (MFC)
  • válvulas de gas electrónicas
  • Bomba de respaldo de paletas rotativas de dos etapas (bomba de diafragma y espiral)
  • Vacuómetro de rango completo
  • Motor de selección de cátodo
  • Rotación, altura e inclinación de la muestra ajustables (para soportes de muestra de 3 pulgadas)
  • Equipado con 3 persianas manuales u electrónicas opcionales.
  • Calentador de sustrato programable (opcional)
  • Tiempo de deposición ilimitado sin romper el vacío
  • Dos años de garantía
  • Automatización:

  • Una pantalla táctil intuitiva para un fácil control del proceso de recubrimiento y una rápida entrada de datos
  • Software fácil de usar que se puede actualizar a través de una conexión de red
  • Proceso de recubrimiento semicompletamente automático opcional
  • Proceso de pulverización repetible y programable en modo automático.
  • Parámetros ajustables opcionales para CC, RF y deposición de alta corriente a través del panel de pantalla táctil
  • Deposición manual o automática temporizada y de espesor.
  • Capacidad para almacenar recetas de recubrimiento para deposiciones repetibles
  • Selección de objetivos para películas delgadas multicapa.
  • Persianas electrónicas para un control preciso
  • Selección de cátodo automatizada
  • Programación y control del calentador de sustrato a través del software.
  • Instalaciones opcionales:

    La recubridora al vacío DST3 cuenta con una cámara de vacío cilíndrica de Pyrex con un diámetro exterior de 300 mm y una altura de 200 mm. Está equipado con una bomba turbomolecular de 90 L/s montada internamente, que está respaldada por una bomba de paletas rotativas de dos etapas de 6 m3/h para un funcionamiento de vacío eficiente.

    aspiradora limpia

  • Pulverización RF para la deposición de objetivos conductores y no conductores
  • Limpiador de plasma para capacidades de limpieza mejoradas
  • Tensión de polarización del sustrato de 300 V CC
  • Calentador de sustrato de 500 °C para un control preciso de la temperatura durante el proceso de recubrimiento.
  • Control de pantalla táctil

    El DST3 viene con un panel de pantalla táctil a color de 7”, que incluye un software fácil de usar para un control y ajuste perfectos de los datos del proceso de deposición. Puede monitorear fácilmente la información de la secuencia de recubrimiento y vacío, que se muestra como datos digitales o curvas en la pantalla táctil. Además, el sistema almacena información sobre los últimos 300 recubrimientos en la página del historial para su comodidad.

    Recubridor por pulverización de escritorio

    Etapas del portamuestras

    El portamuestras viene en dos tamaños estándar: 3 pulgadas, que está disponible en los modelos DST3-A y DST3-S, y 8 pulgadas, exclusivo del DST3-S. Sin embargo, los usuarios tienen la flexibilidad de solicitar tamaños personalizados adaptados a sus requisitos específicos. Los portamuestras más pequeños están equipados con múltiples abrazaderas diseñadas para sujetar de forma segura muestras pequeñas durante la rotación, lo que ofrece una solución sencilla y eficaz.

    Limpiador de plasma

    DST3 puede equiparse opcionalmente con un limpiador de plasma. El tratamiento o limpieza con plasma implica la eliminación de sustancias orgánicas de la superficie de un sustrato o su modificación mediante gas ionizado, conocido como plasma. Este proceso puede alterar las propiedades de la superficie del sustrato, mejorando su hidrofilicidad o hidrofobicidad para facilitar las deposiciones posteriores de manera efectiva. Además, aplicar plasma al sustrato antes de depositar películas delgadas ayuda a eliminar contaminantes de la superficie, como residuos y óxidos a base de carbono, al tiempo que mejora la adhesión entre el sustrato y las capas posteriores.

  • Vacío máximo: Menos de 8x10-6 Torr
  • Encabezado de tabla
    Velocidad de bombeo (l/s)
    90
    350
    Presión máxima (Torr)
    8 × 10-6
    3 × 10-6
  • Cada cátodo puede controlar de forma independiente la velocidad de pulverización catódica para producir estructuras de grano fino.
  • El espesor máximo de cada objetivo, incluida la placa de respaldo, es de 6 mm.
  • El poder de deposición se controla automáticamente independientemente de la presión.
  • Las temperaturas del cátodo se regulan automáticamente para prolongar la vida útil de los imanes.
  • Los datos se registran rápidamente mediante un control de pantalla táctil totalmente automático.
  • Dos medidores de flujo másico (MFC) de precisión permiten un control preciso de la presión de vacío y el flujo de argón u otros gases reactivos de pulverización catódica.
  • Se incluye una válvula de mariposa electrónica para la bomba turbo de 350 l/s.
  • Los parámetros del recubrimiento se registran y trazan.
  • Las curvas y los datos del proceso de deposición se pueden transferir a través de un puerto USB a una PC.
  • Se puede agregar un voltaje de polarización opcional de 300 V CC.
  • Existe la opción de un limpiador de plasma.
  • El sistema incluye una fuente de alimentación CC de 0-1200 V, 0-500 mA.
  • Está disponible una fuente de alimentación RF opcional de 300 W con una caja de adaptación automática.
  • Utilidades: 220/110V, 50/60HZ, con una corriente nominal de 16/25A.
  • Dimensiones del instrumento: 600 ancho × 800 fondo × 770 alto mm (sin incluir el bastidor).
  • Peso neto: 160 kg, incluida la bomba, el bastidor y la caja del instrumento.
  • Opciones y accesorios

  • Sensor de cristal de cuarzo
  • Cámara de vidrio de repuesto
  • Blancos de pulverización
  • Equipo de Maritimo
  • Tensión de polarización de 300 V CC
  • Limpiador de plasma
  • Calentador de sustrato de 500°C
  • Formulario de cotización
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