Recubridor por pulverización catódica de escritorio con objetivo de triple magnetrón y alto vacío con evaporador térmico-DST3-TA/S
El recubridor por pulverización catódica de escritorio con triple objetivo magnetrón y alto vacío con evaporador térmico DST3-TA/S, recubridor por pulverización catódica turbobombeado de triple objetivo, es un sistema de recubrimiento de vacío múltiple versátil que combina capacidades de evaporación térmica y recubrimiento por pulverización catódica dentro de una única unidad de escritorio compacta.
Este sistema de alto vacío es ideal para depositar una amplia gama de materiales. El recubridor de pulverización catódica de escritorio con triple magnetrón puede alternar fácilmente entre los modos de evaporación y pulverización catódica, aunque no puede realizar ambos simultáneamente.
- Películas metálicas, semiconductoras y dieléctricas
- Nano y microelectrónica
- Aplicaciones de células solares
- Procesos de co-sputtering
- feliz farfullando
- Recubrimiento de componentes ópticos
- Sensores de película delgada
- Dispositivos magnéticos de película delgada.
- Aplicaciones de memoria de computadora
- Deposición estructural de grano fino para preparación de muestras SEM y FE-SEM
- Proceso de Sputtering y Evaporación Térmica en un sistema compacto
- Alto nivel de vacío
- Equipado con fuentes de alimentación CC y RF adecuadas para metales, semiconductores y dieléctricos.
- Tres cátodos de magnetrón en ángulo de 2” refrigerados por agua adecuados para producir películas de aleación (DST3-TA) y deposición multicapa
- Una instalación de fuente térmica
- Dos sistemas de monitoreo de cristal de cuarzo fijos y móviles para medición de espesor en tiempo real (precisión de 1 nm)
- Dos MFC
- Deposición manual o automática temporizada o de espesor
- Contento de farfullar
- Limpieza de plasma
- Pantalla táctil intuitiva para controlar el proceso de recubrimiento y una rápida entrada de datos
- Software fácil de usar que se puede actualizar a través de la red
- Equipado con 3 persianas manuales.
- Los productos Vac Coat están cubiertos en todo el mundo por un seguro de responsabilidad civil público y de producto en caso de que se produzcan daños a la propiedad o lesiones personales causados por los sistemas Vac Coat.
- Altura regulable y cambiante del portamuestras giratorio con capacidad de selección de cátodos.
- Calentador de sustrato de 500 °C (opcional)
- Voltajes de polarización del sustrato de 300 V CC (opcional)
- Tiempo de deposición ilimitado sin romper el vacío
- Dos años de garantía
Evaporación térmica del recubrimiento por pulverización con bombeo turbo de triple objetivo
El DST3-T está equipado con una fuente de alimentación robusta de alta corriente y una plataforma de evaporación térmica resistiva de bajo voltaje que es adecuada para una amplia gama de aplicaciones de evaporación térmica. Este sistema de recubrimiento por pulverización catódica permite una evaporación térmica precisa de diversos materiales sobre un sustrato. Puede montar fácilmente diferentes tipos de fuentes de evaporación térmica, como botes, cestas y serpentines, en un solo soporte para mayor flexibilidad.
Control de pantalla táctil
El recubridor por pulverización bombeada turbomolecular Triple Target viene con una interfaz de pantalla táctil a color de 7 pulgadas fácil de usar que ofrece control semiautomático y fácil entrada de datos, lo que lo hace accesible incluso para usuarios inexpertos. Puede ver los datos de vacío y deposición en forma digital o como curvas gráficas en la pantalla táctil. Además, la información de los últimos 300 recubrimientos se puede almacenar cómodamente en la página del historial.
Soporte de muestra para recubridor por pulverización catódica
El soporte de muestras está diseñado para acomodar portaobjetos de microscopio estándar, pero también se puede personalizar para adaptarse a requisitos específicos. Cuenta con múltiples abrazaderas que sujetan de forma segura muestras pequeñas en su lugar durante la rotación, lo que ofrece una solución sencilla para el manejo de muestras.
Limpiador de plasma
El recubridor por pulverización catódica de triple objetivo DST3-T también ofrece la opción de un limpiador de plasma. La limpieza con plasma al vacío es un proceso que implica el uso de gas ionizado, conocido como plasma, para eliminar contaminantes orgánicos de la superficie de un sustrato. Este paso de limpieza previa es esencial antes de depositar una película para garantizar que cualquier contaminación, como residuos de carbón u óxido, se elimine de la superficie del sustrato. Este proceso mejora la adhesión entre el sustrato y las capas posteriores.
Limpiar el vacío de la recubridora por pulverización catódica
La cámara de vacío del Sputter Coater DST3-T está hecha de Pyrex cilíndrico con unas dimensiones de 300 mm de diámetro exterior y 200 mm de altura. Este sistema está equipado con una bomba turbomolecular de 90 l/s montada internamente, que está respaldada por una bomba de diafragma de 1.4 m3/h o una bomba rotativa de paletas de dos etapas de 4 m3/h.
El DST3-T, Recubridor Sputter de escritorio con magnetrón, viene con una cámara grande con un diámetro de 300 mm y está equipado con tres cátodos enfriados por agua de 2” de diámetro. Este diseño permite tiempos de deposición prolongados cuando sea necesario. El recubridor por pulverización catódica de escritorio con magnetrón está equipado con fuentes de alimentación de RF y CC, lo que le permite pulverizar diversos materiales, incluidos semiconductores, dieléctricos y metales nobles y oxidantes.
Para mejorar la adhesión de películas delgadas al sustrato y mejorar la calidad de la película, existe una característica opcional para aplicar un voltaje de polarización de 300 V CC al sustrato. Además, el sistema de recubrimiento por pulverización catódica incluye una caja de coincidencia autoajustable, que ayuda a minimizar la potencia reflejada durante el proceso de pulverización catódica de RF.
Según el estado de los cátodos, DST3-T está disponible en dos modelos:
DST3-TA (Cátodos en ángulo):
El DST3-TA presenta tres cátodos en ángulo que comparten un punto focal común. Este sistema de recubrimiento por pulverización catódica tiene la capacidad de pulverizar de forma simultánea o independiente desde dos o tres objetivos (opcionales). Esta flexibilidad permite la deposición de aleaciones o recubrimientos multicapa, según los requisitos específicos. En este modelo, el tamaño máximo de sustratos que se pueden acomodar es de hasta 3 pulgadas de diámetro.
DST3-TS (Cátodos Rectos):
DST3-TS con tres cátodos rectos de 2 pulgadas refrigerados por agua es adecuado para pulverizar una sola muestra grande con un diámetro de hasta 20 cm o varias muestras pequeñas.
- Bomba turbomolecular de alto vacío
Velocidad de bombeo | 90 l / s | 350 l / s |
Presión máxima | 7×10 -6 Torr | 7 × 10-7 Torr |
- Bomba turbomolecular de alto vacío
- Bomba rotativa de paletas de dos etapas 4 m3/h
- Tasa de control de pulverización independiente para cada cátodo para producir estructuras de grano fino
- Control automático del poder de deposición independiente de la presión.
- Control automático de las temperaturas del cátodo para proteger la vida útil de los imanes.
- Pasamuros eléctricos de alta corriente refrigerados por agua
- Dos controladores de flujo másico (MFC) de precisión para un control preciso del flujo de Ar y del gas de pulverización reactivo
- Registros y trazados de gráficos de parámetros de recubrimiento.
- Transfiere curvas y datos del proceso de deposición mediante un puerto USB a la PC
- Voltaje de polarización de 300 V CC (opcional)
- Equipado para limpiador de plasma (opcional)
- Equipado con calentador de sustrato de 500˚C (opcional)
- Fuente de alimentación CC 0-1200 V, 0-500 mA
- Fuente de alimentación de alta corriente de 0-24 V, 0-100 A
- Fuente de alimentación RF de 300 W con caja de adaptación automática
- Utilidades: 220V-240V, 50/60HZ, 16A
- Dimensiones de la caja: 50 cm alto x 60 cm ancho x 47 cm profundidad
- Peso de envío: 160 kg (bomba, bastidor y caja)
Opciones y accesorios
El recubridor por pulverización catódica con bombeo turbomolecular de triple objetivo – DST3-T tiene las siguientes opciones y accesorios:
- Sensores de cristal de cuarzo
- Cámara de vidrio de vacío de repuesto
- Blancos de pulverización
- Materiales de origen térmico
- Tensión de polarización de 300 V CC
- Limpiador de plasma
- Calentador de sustrato de 500˚C