Horno de fondo elevable TT-LF-64-1700

Producto principal

El horno de fondo elevable TT-LF-64-1700 está diseñado para operar a temperaturas de hasta 1700 °C, lo que lo convierte en una excelente solución para el procesamiento térmico avanzado. Se utiliza ampliamente en universidades, centros de investigación, laboratorios industriales y plantas de fabricación. Este horno es adecuado para aplicaciones con metales, cerámicas, nanomateriales y semiconductores.

Además de su uso en investigación e industria, el TT-LF-64-1700 también es ideal para aplicaciones dentales, en particular para la sinterización de coronas de zirconio en la industria de prótesis dentales. Gracias a su diseño robusto, su preciso control de temperatura y su avanzado sistema de calentamiento, garantiza un rendimiento consistente y fiable en una amplia gama de necesidades de procesamiento de materiales.

  • Materiales cerámicos avanzados – Permite la sinterización y densificación precisas de cerámicas avanzadas, brindando excelente resistencia térmica, integridad estructural y resistencia mecánica para aplicaciones industriales y de investigación.

  • Investigación de nanomateriales Proporciona un tratamiento térmico uniforme y de alta precisión para nanoestructuras y materiales compuestos. Apoya la I+D en nanomateriales funcionales aplicados a la electrónica, la catálisis y el almacenamiento de energía.

  • Materiales semiconductores Facilita los procesos de difusión, recocido y oxidación de sustratos semiconductores a temperaturas ultraaltas. Garantiza un control preciso, crucial para la fabricación de microelectrónica y optoelectrónica.

  • Metalurgia de polvos – Facilita la sinterización a alta temperatura de polvos metálicos para formar componentes densos y de formas complejas. Ampliamente utilizado para la producción de aleaciones avanzadas y piezas estructurales, tanto en investigación como en producción.

  • Aplicaciones dentales Especialmente indicado para la sinterización y cristalización de coronas de zirconio en laboratorios y clínicas dentales. Garantiza un procesamiento sin contaminación y una translucidez uniforme para prótesis de alta calidad.

  • Ingeniería de materiales aeroespaciales Permite la prueba, validación y procesamiento de aleaciones, cerámicas y compuestos de alto rendimiento para uso aeroespacial. Garantiza la estabilidad térmica y la fiabilidad de la resistencia en condiciones extremas.

  • Investigación sobre energía y baterías Proporciona un tratamiento térmico estable para electrolitos de estado sólido, componentes de baterías de iones de litio y materiales de almacenamiento de energía de última generación. Garantiza la reproducibilidad y la fiabilidad en la I+D energética.

  • Universidades e institutos de investigación Ideal para estudios avanzados de física, química, ciencia de materiales e ingeniería. Ofrece una gran flexibilidad de programación, un rendimiento fiable y sistemas de seguridad integrados para laboratorios académicos.

  • Industrial Quality Control & Certificación Ofrece capacidades de prueba a alta temperatura para la validación de productos, comprobaciones de cumplimiento y procesos de certificación. Cumple con las normas internacionales ISO, CE, SGS y TÜV.

Carcasa del horno

  • Construido en acero con bajo contenido de carbono Q235 con un acabado electrostático resistente a la corrosión.
  • Estructura de tanque de acero duradera diseñada para mantener una temperatura superficial externa baja.
  • Puerta de horno de apertura lateral con sistema de sellado con brida y bloqueo de tornillo manual para una operación más fácil.

Material refractario

  • Diseño de aislamiento multicapa con fibra cerámica de alúmina ligera y paneles de protección térmica de alta calidad. Libre de amianto, ofrece baja pérdida de calor y un consumo energético reducido.

Sistema de calefacción

  • Elementos de calentamiento por resistencia de alto rendimiento instalados para transferencia de calor radiante dentro de la cámara: eficientes, ahorradores de energía y diseñados para durar.
  • El calentamiento por anillo envolvente garantiza una distribución uniforme de la temperatura en todos los lados del horno.
  • Las características opcionales incluyen un puerto de escape montado en la parte superior y una entrada de aire inferior con control de flujo.
  • El diseño de carga inferior permite apilar múltiples capas de materiales: dos o tres capas según el tipo de horno.

Panel de control de temperatura

  • Equipado con un controlador PID que utiliza el modo SSR/SCR para una regulación precisa de la temperatura.
  • Utiliza un termopar estándar internacional diseñado para uso a largo plazo.

Controlador de programa

  • Controles avanzados diseñados para procesos térmicos complejos.
  • Interfaz intuitiva con capacidades de programación flexibles.
  • Admite hasta 30 segmentos programables por perfil.
  • Alarmas de sobretemperatura y fallas incorporadas con apagado automático de seguridad.

Horno de fondo elevable TT-LF-64-1700
Horno de fondo elevable TT-LF-64-1700
Horno de fondo elevable TT-LF-64-1700

Modelo del Producto

Tamaño de la cámara (mm)

Volumen

Temperatura maxima

Temperatura de funcionamiento

VOLTIOS

Energía

Elemento de calefacción

Exactitud del control de temperatura

TT-LF-120-1200Φ120 × 1202L1200 ℃1100 ℃220 V (también disponible en 110 V)2KWHRE± 1 ℃
TT-LF-150-1200Φ150 × 1503L1200 ℃1100 ℃220 V (también disponible en 110 V)3KWHRE± 1 ℃
TT-LF-200-1200Φ200 × 2006L1200 ℃1100 ℃220 V (también disponible en 110 V)4KWHRE± 1 ℃
TT-LF-300-1200Φ300 × 30020L1200 ℃1100 ℃380V6KWHRE± 1 ℃
TT-LF-120-1400Φ120 × 1202L1400 ℃1350 ℃220 V (también disponible en 110 V)3KWSIC± 1 ℃
TT-LF-150-1400Φ150 × 1503L1400 ℃1350 ℃220 V (también disponible en 110 V)4KWSIC± 1 ℃
TT-LF-200-1400Φ200 × 2006L1400 ℃1350 ℃220 V (también disponible en 110 V)5KWSIC± 1 ℃
TT-LF-300-1400Φ300 × 30020L1400 ℃1350 ℃380V6KWSIC± 1 ℃
TT-LF-120-1700Φ120 × 1202L1700 ℃1600 ℃220 V (también disponible en 110 V)3KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-150-1700Φ150 × 1503L1700 ℃1600 ℃220 V (también disponible en 110 V)4KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-200-1700Φ200 × 2006L1700 ℃1600 ℃220 V (también disponible en 110 V)4KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-300-1700Φ300 × 30020L1700 ℃1600 ℃380V8KWMoSi2± 1 ℃

Solicitud de Cotizacion

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