Horno de carga inferior con elevación TT-LF-64-1700

Producto principal

El horno de carga inferior con elevación TT-LF-64-1700, con capacidad para temperaturas de hasta 1700 °C, está diseñado para un procesamiento térmico de alto rendimiento en una amplia gama de aplicaciones. Se utiliza ampliamente en universidades, institutos de investigación, laboratorios industriales y plantas de fabricación. Gracias a su diseño avanzado, el horno facilita la investigación y la producción de metales, cerámicas, nanomateriales y semiconductores, garantizando resultados precisos y fiables.

Además de su uso industrial y de investigación, este horno también es adecuado para aplicaciones dentales, como la sinterización de coronas de zirconio en la industria de prótesis dentales. Equipado con elementos calefactores de disiliciuro de molibdeno (MoSi₂) de alta calidad, un control preciso de la temperatura (±1 °C) y una amplia cámara de 64 L, el TT-LF-64-1700 ofrece un rendimiento constante en entornos exigentes de procesamiento de materiales.

  • Materiales cerámicos avanzados Permite la sinterización y densificación precisas a alta temperatura de cerámicas técnicas. Garantiza una excelente estabilidad térmica, integridad estructural y resistencia mecánica, tanto para la producción industrial como para la investigación.

  • Investigación de nanomateriales Proporciona un calentamiento uniforme para el procesamiento térmico de nanoestructuras y compuestos funcionales. Apoya la I+D avanzada en nanomateriales para electrónica, catálisis y almacenamiento de energía.

  • Procesamiento de semiconductores Facilita el recocido, la oxidación y la difusión controlados de sustratos semiconductores. La gestión precisa de la temperatura garantiza la repetibilidad en la fabricación de microelectrónica y optoelectrónica.

  • Metalurgia de polvos Ideal para la sinterización y densificación de polvos metálicos en componentes complejos de alta resistencia. Ampliamente aplicado en la industria aeroespacial, automotriz e investigación de materiales.

  • Aplicaciones dentales – Facilita la sinterización y cristalización de coronas de zirconio para laboratorios dentales y la fabricación de prótesis dentales. Ofrece una cocción fiable y sin contaminación, con translucidez y densidad uniformes.

  • Investigación sobre energía y baterías – Proporciona tratamiento térmico de alta precisión de materiales avanzados como electrolitos sólidos, polvos de cátodo/ánodo y componentes de batería de próxima generación.

  • Universidades e institutos de investigación Diseñado para estudios educativos y científicos en química, física, ciencia de materiales e ingeniería. Ofrece un rendimiento fiable con programación flexible para entornos de laboratorio.

  • Industrial Quality Control & Certificación Adecuado para pruebas de productos, validación de cumplimiento y certificación bajo estrictas normas regulatorias. Cumple con los requisitos de calidad ISO, CE, SGS y TÜV.

Carcasa del horno

  • Construida con acero con bajo contenido de carbono Q235, la carcasa presenta una superficie resistente a la electrostática y anticorrosión.
  • El diseño duradero del tanque de metal ayuda a mantener una temperatura externa baja.
  • La puerta del horno utiliza una estructura sellada con brida con compresión de tornillo manual y un diseño de apertura lateral para una operación más fácil.

Material refractario

  • El aislamiento multicapa, fabricado con fibra cerámica de alúmina ligera y paneles aislantes de primera calidad, proporciona una protección térmica eficaz. Los materiales no contienen amianto, lo que garantiza una baja pérdida de calor y un menor consumo de energía.

Sistema de calefacción

  • Se instalan elementos de calentamiento por resistencia de alto rendimiento para el calentamiento por radiación libre dentro de la cámara, lo que proporciona eficiencia energética y una larga vida útil.
  • Los elementos calefactores tipo anillo en todos los lados promueven una distribución uniforme de la temperatura en toda la cámara.
  • Las características opcionales incluyen un puerto de escape montado en la parte superior y una entrada de aire regulada en la parte inferior.
  • El contenedor de carga se puede colocar en la parte inferior del horno, permitiendo apilar de dos a tres capas según el modelo.

Panel de control de temperatura

  • El controlador PID con modo de control SSR/SCR garantiza una regulación precisa de la temperatura.
  • Utiliza un termopar estándar internacional con mayor durabilidad.

Controlador de programa

  • El controlador avanzado admite procesos térmicos complejos.
  • La interfaz fácil de usar permite una programación flexible y sencilla.
  • Capaz de almacenar hasta 30 segmentos programables en una sola curva.
  • Las alarmas integradas de sobretemperatura y fallas ofrecen protección de seguridad automática.

Horno de carga inferior con elevación TT-LF-64-1700
Horno de carga inferior con elevación TT-LF-64-1700
Horno de carga inferior con elevación TT-LF-64-1700

Modelo del Producto

Tamaño de la cámara (mm)

Volumen

Temperatura maxima

Temperatura de funcionamiento

VOLTIOS

Energía

Elemento de calefacción

Exactitud del control de temperatura

TT-LF-120-1200Φ120 × 1202L1200 ℃1100 ℃220 V (también disponible en 110 V)2KWHRE± 1 ℃
TT-LF-150-1200Φ150 × 1503L1200 ℃1100 ℃220 V (también disponible en 110 V)3KWHRE± 1 ℃
TT-LF-200-1200Φ200 × 2006L1200 ℃1100 ℃220 V (también disponible en 110 V)4KWHRE± 1 ℃
TT-LF-300-1200Φ300 × 30020L1200 ℃1100 ℃380V6KWHRE± 1 ℃
TT-LF-120-1400Φ120 × 1202L1400 ℃1350 ℃220 V (también disponible en 110 V)3KWSIC± 1 ℃
TT-LF-150-1400Φ150 × 1503L1400 ℃1350 ℃220 V (también disponible en 110 V)4KWSIC± 1 ℃
TT-LF-200-1400Φ200 × 2006L1400 ℃1350 ℃220 V (también disponible en 110 V)5KWSIC± 1 ℃
TT-LF-300-1400Φ300 × 30020L1400 ℃1350 ℃380V6KWSIC± 1 ℃
TT-LF-120-1700Φ120 × 1202L1700 ℃1600 ℃220 V (también disponible en 110 V)3KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-150-1700Φ150 × 1503L1700 ℃1600 ℃220 V (también disponible en 110 V)4KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-200-1700Φ200 × 2006L1700 ℃1600 ℃220 V (también disponible en 110 V)4KWMoSi2± 1 ℃
TT-LF-300-1700Φ300 × 30020L1700 ℃1600 ℃380V8KWMoSi2± 1 ℃

Solicitud de Cotizacion

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