Horno de sinterización de elevación TT-LF-300-1700
El horno de sinterización de elevación TT-LF-300-1700 está diseñado para la sinterización a alta temperatura de materiales avanzados como cerámica electrónica, materiales magnéticos, cerámica funcional, cerámica estructural, objetivos de ITO y materiales compuestos. Con un control preciso de la temperatura y una construcción robusta, garantiza un rendimiento estable y eficiente en procesos térmicos exigentes.
Este horno es ideal para la producción a pequeña escala, tanto en laboratorios como en entornos industriales. Equipado con una espaciosa cámara de 300 L, fiables elementos calefactores de MoSi₂ y una precisión de temperatura de ±1 °C, ofrece resultados consistentes y reproducibles para aplicaciones de investigación y procesamiento de materiales especializados.
Cerámica Electrónica – Permite la sinterización y densificación a alta temperatura de componentes cerámicos electrónicos, lo que garantiza un aislamiento eléctrico superior, propiedades dieléctricas y estabilidad a largo plazo.
Materiales magnéticos – Proporciona un calentamiento preciso y uniforme para el procesamiento de materiales magnéticos, lo que respalda el desarrollo de ferritas y cerámicas magnéticas avanzadas utilizadas en las industrias de la electrónica y las comunicaciones.
Cerámica funcional y estructural – Facilita la sinterización de cerámicas de alto rendimiento con excelente resistencia térmica, resistencia mecánica y durabilidad química para aplicaciones industriales y de ingeniería.
Objetivos de ITO y películas delgadas – Admite la sinterización de objetivos de óxido de indio y estaño (ITO) utilizados en pantallas, células solares y dispositivos optoelectrónicos, lo que garantiza alta densidad, uniformidad y conductividad.
Materiales compuestos – Optimizado para la consolidación y el procesamiento térmico de sistemas compuestos, lo que permite un mejor rendimiento para aplicaciones aeroespaciales, automotrices y relacionadas con la energía.
Investigación de nanomateriales – Proporciona un control térmico preciso para nanoestructuras y compuestos avanzados, lo que respalda la investigación en materiales funcionales, catálisis y almacenamiento de energía de próxima generación.
Materiales semiconductores – Adecuado para recocido, oxidación y sinterización de sustratos semiconductores a temperaturas ultra altas, crítico para la microelectrónica, la fotónica y la optoelectrónica.
Investigación y producción industrial – Diseñado para producción a pequeña escala y uso en laboratorio, combinando resultados reproducibles con alta durabilidad para universidades, centros de I+D e industrias especializadas.
Carcasa del horno
- Construido con acero con bajo contenido de carbono Q235 con un tratamiento de superficie que resiste la acumulación estática y la corrosión.
- El diseño duradero de la carcasa de metal garantiza una baja temperatura de la superficie externa.
- Equipado con una puerta sellada con brida y un mecanismo de bloqueo de tornillo manual, con una configuración de apertura lateral para una operación más fácil.
- La plataforma inferior está accionada por un servomotor con control de precisión basado en PLC. La dirección y la velocidad de rotación son ajustables, lo que permite el movimiento hacia adelante y hacia atrás. Esto garantiza una distribución uniforme del calor y un calentamiento constante de la muestra a altas temperaturas.
Material refractario
- Sistema de aislamiento multicapa fabricado con fibra cerámica de alúmina ligera y paneles de aislamiento térmico de primera calidad. Su diseño no contiene amianto, minimiza la pérdida de calor y permite un bajo consumo energético.
Sistema de calefacción
- Los elementos calefactores de resistencia de primera calidad proporcionan un calentamiento radiante y eficiente en toda la cámara, diseñados para brindar durabilidad y una larga vida útil.
- Los elementos calefactores en forma de anillo en todos los lados garantizan una distribución uniforme de la temperatura dentro del horno.
- Las características opcionales incluyen un puerto de escape superior y una entrada de aire regulada en la parte inferior del horno.
- La bandeja de carga en la base puede acomodar contenedores apilados, lo que permite colocar dos o tres capas de materiales, según la configuración del horno.
Panel de control de temperatura
- Controlador PID de alta precisión con control SSR/SCR para una regulación de temperatura estable y precisa.
- Equipado con un termopar de larga duración construido según estándares internacionales.
Controlador de programa
- Controlador avanzado para soportar procesos térmicos complejos.
- Interfaz fácil de usar con capacidades de programación flexibles.
- Admite hasta 30 segmentos programables por curva de calentamiento.
- Incluye protección contra sobretemperatura y alarmas de falla para respuesta de seguridad automática.
Opciones funcionales
- Sistema de enfriamiento de aire opcional para un enfriamiento rápido: puede reducir la temperatura del horno a 400 °C rápidamente.
- Control de entrada de aire manual o automático opcional para apoyar el procesamiento en atmósfera controlada.
| Modelo | Tamaño de la cámara (mm) | Volumen | Temperatura maxima | Temperatura de funcionamiento | VOLTIOS | Energía | Elemento de calefacción | Exactitud del control de temperatura |
| TT-LF-96-1200 | 400 600 × × 400 | 96L | 1200 ℃ | 1100 ℃ | 380V | 18KW | HRE | ± 1 ℃ |
| TT-LF-288-1200 | 600 800 × × 600 | 288L | 1200 ℃ | 1100 ℃ | 380V | 30KW | HRE | ± 1 ℃ |
| TT-LF-640-1200 | 800 1000 × × 800 | 640L | 1200 ℃ | 1100 ℃ | 380V | 45KW | HRE | ± 1 ℃ |
| TT-LF-96-1400 | 400 600 × × 400 | 96L | 1400 ℃ | 1300 ℃ | 380V | 21KW | SIC | ± 1 ℃ |
| TT-LF-288-1400 | 600 800 × × 600 | 288L | 1400 ℃ | 1300 ℃ | 380V | 30KW | SIC | ± 1 ℃ |
| TT-LF-640-1400 | 800 1000 × × 800 | 640L | 1400 ℃ | 1300 ℃ | 380V | 50KW | SIC | ± 1 ℃ |
| TT-LF-96-1700 | 400 600 × × 400 | 96L | 1700 ℃ | 1600 ℃ | 380V | 25KW | MoSi2 | ± 1 ℃ |
| TT-LF-150-1700 | 500 600 × × 500 | 150L | 1700 ℃ | 1600 ℃ | 380V | 35KW | MoSi2 | ± 1 ℃ |
| TT-LF-324-1700 | 600 900 × × 600 | 324L | 1700 ℃ | 1600 ℃ | 380V | 60KW | MoSi2 | ± 1 ℃ |
| TT-LF-640-1700 | 800 1000 × × 800 | 640L | 1700 ℃ | 1600 ℃ | 380V | 80KW | MoSi2 | ± 1 ℃ |
| TT-LF-96-1800 | 400 600 × × 400 | 96L | 1750 ℃ | 1700 ℃ | 380V | 25KW | MoSi2 | ± 1 ℃ |
| TT-LF-150-1800 | 500 600 × × 500 | 150L | 1750 ℃ | 1700 ℃ | 380V | 35KW | MoSi2 | ± 1 ℃ |
| TT-LF-324-1800 | 600 900 × × 600 | 324L | 1750 ℃ | 1700 ℃ | 380V | 60KW | MoSi2 | ± 1 ℃ |
