Recubridores por pulverización / Sistemas de recubrimiento al vacío - Sistema de deposición por láser pulsado PLD
Sistema de deposición por láser pulsado PLD
Sistema de deposición por láser pulsado PLD adaptable y sistema de evaporación térmica: PLD-T es un sistema avanzado de deposición de película delgada de alto vacío que permite la deposición de diversos materiales utilizando técnicas de deposición por láser pulsado y de evaporación térmica. Este sistema es capaz de depositar materiales complejos y estructuras cristalinas sobre sustratos con una configuración mínima requerida.
La técnica de Deposición por Láser Pulsado facilita una ablación no térmica eficiente, preservando la estequiometría de los materiales objetivo. Utilizando este método, es posible depositar materiales como nitruros, óxidos, superredes, polímeros y compuestos.
Manipulador de objetivos:
Fuentes Térmicas:
Medición de espesor en tiempo real:
Interfaz amigable:
Limpieza de plasma:
Software actualizable:
Manejo de muestras:
Selección de embarcaciones motorizadas:
Calentamiento del sustrato:
Garantía y Seguro:
Fuentes de evaporación térmica (barco/cesta/bobina):
El Sistema de Deposición por Láser Pulsado es adaptable a tres fuentes independientes de evaporación térmica resistentes al calor, que pueden tener forma de botes, cestas o bobinas. Estas fuentes están diseñadas para una evaporación eficiente del material sin provocar transferencia de contaminación a otros materiales. La longitud de los soportes para fuentes se puede ajustar en un rango de 5 a 10 cm, atendiendo a los requisitos específicos del cliente.
Manipulador de objetivos:
El sistema PLD cuenta con un manipulador de objetivos múltiples equipado para manejar tres objetivos, cada uno con un diámetro de 2 cm. Los objetivos son de tamaño estándar y todos los manipuladores de objetivos están motorizados, lo que permite una rotación y posicionamiento precisos del objetivo durante el proceso de deposición.
Control intuitivo de pantalla táctil con pantalla vibrante:
El sistema de deposición por láser pulsado PLD-T está diseñado con una pantalla táctil a color de 7 pulgadas fácil de usar, que proporciona una interfaz intuitiva para un fácil control y monitoreo. La pantalla táctil permite un control totalmente automático y una entrada de datos sin esfuerzo, haciéndola accesible incluso para usuarios con experiencia limitada.
Los usuarios pueden observar cómodamente los niveles de vacío, el estado actual y la información de deposición que se muestra tanto en formato digital como en curvas gráficas directamente en la pantalla táctil. Además, el sistema incluye una página de historial donde se pueden guardar y revisar los datos de los últimos 300 recubrimientos para referencia y análisis. Esta característica mejora la eficiencia y facilita una experiencia de usuario perfecta durante todo el proceso de recubrimiento.
Estas especificaciones describen los componentes y características clave del sistema de evaporador térmico y deposición por láser pulsado, destacando sus capacidades en operación de vacío, suministro de energía, control de flujo de gas, análisis de datos y facilidad de uso.
Opciones y accesorios para PLD-T:
Fuentes de evaporación térmica:
Calentador de sustrato:
Materiales de fuentes de evaporación:
Sensores de cristal de cuarzo:
Equipo de Maritimo:
Estas opciones y accesorios mejoran la versatilidad y funcionalidad del sistema PLD-T, permitiendo procesos de deposición de películas delgadas eficientes y personalizados manteniendo una alta precisión y control.
Especificaciones del sistema de evaporación térmica y deposición por láser pulsado:
Sistema de vacío:
Medición de vacío:
Medición de espesor en tiempo real:
Fuente de alimentación:
Control de flujo de gas:
Registro y análisis de datos:
Transferencia de datos:
Utilidades:
Dimensiones:
Peso:
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