Los recubrimientos por pulverización de escritorio de Torontech son capaces de recubrir películas delgadas de metales nobles, como oro (Au), plata (Ag), paladio (Pa) y platino (Pt), en muestras no conductoras o poco conductoras de manera uniforme y con un tamaño de grano fino en el tiempo de ciclo rápido. El buen diseño del sistema permite al usuario cargar y descargar muestras fácilmente y cambiar rápidamente el objetivo.
Nuestras ofertas de productos incluyen:
Recubridor por pulverización de escritorio DSR1: El Desk Magnetron Sputter Coater (DSR1) es una herramienta de alta productividad que ofrece resultados consistentes y altamente repetibles en un sistema totalmente automatizado. El diseño ergonómico y el tamaño reducido del sistema de recubrimiento DSR1 SEM permiten un fácil uso del sistema.
TT-DSR1, el sistema modular de preparación de muestras SEM, configurado como recubridor por pulverización catódica y recubridor de carbono (rosca) con cabezales intercambiables en un solo instrumento. Es un sistema de preparación de muestras de microscopio electrónico de barrido (SEM) equipado con una bomba rotativa para lograr un vacío inferior a 50 mTorr, que es un rango de vacío adecuado para el recubrimiento por pulverización catódica y el recubrimiento por evaporación de metales nobles. Más información
Recubridor de carbón de escritorio DCR: Desk Carbon Coater DCR es un sistema compacto de recubrimiento de fibra de carbono adecuado para la preparación de muestras para su uso en microscopio electrónico de barrido (SEM), microscopio electrónico de transmisión (TEM) y análisis de rayos X (EDX).
Este dispositivo está disponible en dos formatos:
1. DCR es un recubridor de carbón con bomba rotativa adecuado para la preparación de muestras SEM, EDS/WDS y aplicaciones de película delgada.
2. DCT es un recubridor de carbón con turbobomba ideal para aplicaciones FE-SEM, EDS/WDS, TEM, EBSD y de película delgada. Esta recubridora de alto vacío ofrece películas de carbono uniformes de alta calidad con tamaños de grano fino que son adecuadas para muestras que requieren una caracterización de alta resolución y alta calidad. Más información
Recubridor por pulverización catódica de escritorio con objetivo de triple magnetrón: El DST3 es un recubridor por pulverización catódica con bomba de vacío turbomolecular, de triple objetivo y de escritorio, adecuado para pulverizar semiconductores, dieléctricos, metales y óxidos metálicos. También se puede montar una fuente de evaporación para la fuente de evaporación térmica en el dispositivo para el proceso de evaporación térmica. El DST3 está equipado con una cámara grande y un sistema de enfriamiento por circulación de agua para cada cátodo, lo que lo hace adecuado para pulverización catódica; un único espécimen de gran diámetro; y co-sputtering; una muestra de pequeño diámetro. Más información
Recubridor por pulverización catódica de escritorio con objetivo de magnetrón único: La recubridora por pulverización catódica de mesa con magnetrón modelo DST1 es un sistema de recubrimiento compacto con capacidad para recubrir semiconductores, dieléctricos y metales (oxidantes y no oxidantes). Se forman películas delgadas uniformes con tamaños de grano fino en un ciclo rápido.
El DST1 está equipado con un cátodo de magnetrón cuyo diámetro puede ser de 2 a 4 pulgadas, según los requisitos. Más información
Sistema de evaporación térmica y deposición por láser pulsado: PLD – T es un sistema de deposición de película fina de alto vacío que permite depositar diferentes materiales tanto mediante deposición por láser pulsado como por técnica de evaporación térmica. Puede depositar materiales complejos y estructuras cristalinas sobre sustratos con muy poca configuración.
La técnica de deposición por láser pulsado conduce a una ablación no térmica eficiente y preserva la estequiometría de los materiales objetivo. Al aplicar este método se podrían depositar materiales como nitruros, óxidos, superredes, polímeros y composites. Más información
Recubridor por pulverización de escritorio: Recubridor por pulverización catódica de escritorio DST2-T Recubridor de escritorio versátil, de alto vacío y doble objetivo para evaporación térmica y pulverización catódica. El DST2-T es un sistema de recubrimiento al vacío múltiple, de doble objetivo, con bomba turbo molecular, que combina un evaporador térmico y un recubrimiento por pulverización catódica en un solo sistema de escritorio compacto. Es adecuado para la deposición de una amplia gama de materiales. El sistema puede cambiar fácilmente entre condiciones de evaporación y pulverización catódica. Más información
Además de las máquinas mencionadas anteriormente, Torontech también admite varios requisitos únicos que puedan tener nuestros clientes. Nuestra gama de maquinaria es altamente personalizable y nuestro equipo de expertos va más allá para garantizar la entrega de valor.
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