Recubridores por pulverización / Sistemas de recubrimiento al vacío
Torontech ofrece una amplia gama de sistemas de recubrimiento por pulverización y vacío de escritorio. Estos sistemas de recubrimiento por pulverización y de recubrimiento al vacío abarcan desde recubrimientos por pulverización de bajo a alto vacío, como el DSR1 y DST1, que se utilizan comúnmente para la preparación de muestras en imágenes de microscopía electrónica, hasta sistemas de recubrimiento por pulverización de alto vacío y evaporadores térmicos como el DST2-TG. o DST3-T. Estos sistemas vienen con una variedad de características opcionales, incluido un limpiador de plasma, destinado principalmente a la deposición de películas delgadas con fines de investigación.
Nuestro equipo de ingeniería diseña y fabrica componentes de sistemas de recubrimiento por pulverización y de recubrimiento al vacío que cumplen con estándares de alta calidad. Muchas universidades y centros de investigación prestigiosos se encuentran entre nuestros valiosos clientes, todos los cuales han expresado su satisfacción con esta avanzada gama de sistemas de recubrimiento por pulverización y de recubrimiento al vacío.
Categorías de Producto
Recubridor de carbón para escritorio - DCR
Desk Carbon Coater - DCR es un sistema compacto de recubrimiento de fibra de carbono adecuado para la preparación de muestras para su uso en microscopio electrónico de barrido (SEM), microscopio electrónico de transmisión (TEM) y análisis de rayos X (EDX).
Recubridor por pulverización de escritorio: DSR1
El Desk Sputter Coater - TT-DSR es capaz de recubrir películas delgadas de metales nobles, como oro (Au), plata (Ag), paladio (Pa) y platino (Pt) en muestras no conductoras o poco conductoras de manera uniforme y fina. tamaño de grano en...
Recubridor por pulverización catódica de escritorio con objetivo de magnetrón único y alto vacío DST1-170
El recubridor por pulverización catódica de escritorio con objetivo de magnetrón único de alto vacío DST1-170 es perfecto para la preparación de muestras SEM y para depositar materiales como Au, Pt/Pd, Ag, Cr, W e Ir. Produce películas de alta calidad para FE-SEM, EDS/WDS, TEM...
Recubridor por pulverización catódica de escritorio con objetivo de magnetrón único y alto vacío DST1-300
Recubridor por pulverización catódica de escritorio con objetivo de magnetrón único de alto vacío DST1-300 para semiconductores, dieléctricos y metales. Magnetrón de 2 a 4 pulgadas, 600 W CC y 300 W de potencia RF. Ideal para muestras de hasta 15 cm, tiempo de pulverización ilimitado.
Recubrimiento de carbón de escritorio con bombeo turbo - DCT
Recubridor de carbón de escritorio con bombeo turbo DCT para aplicaciones FE-SEM, EDS/WDS, TEM, EBSD y de película delgada. Produce películas de carbono uniformes y de alta calidad con tamaños de grano fino, ideales para caracterizaciones de alta resolución y máxima calidad.
Revestimiento de carbón y pulverización de escritorio - DSCR
Desk Sputter & Carbon Coater DSCR para metales nobles (Au, Pd, Pt, Au/Pd) y películas de carbono. Cuenta con bomba rotativa, cabezales intercambiables y software fácil de usar para la preparación de muestras SEM.
Recubridor de carbón y pulverizador de escritorio – DSCR-300
Desk Sputter & Carbon Coater DSCR-300 con magnetrón refrigerado por agua de 3-4 pulgadas para muestras grandes de hasta 15 cm. Ideal para capas finas y gruesas, micro/nanoelectrónica y preparación SEM. Maneja metales nobles y películas de carbono.
Recubridor de carbón y pulverizador de escritorio de alto vacío - DSCT
DSCT de recubrimiento de carbono y pulverización de escritorio de alto vacío para análisis SEM. Cuenta con magnetrón de 2 pulgadas, potencia de CC de 80 W y alta corriente para carbono. Cátodo refrigerado por agua opcional y fuente de alimentación superior para metales oxidantes.
Recubridor por pulverización catódica de alto vacío y evaporador térmico/de carbón – DSCT-T
Recubridor por pulverización catódica de alto vacío y evaporador térmico/de carbono DSCT-T para preparación SEM. Cuenta con 3 cabezales intercambiables, deposita metales como Au, Pt/Pd, Ag, Cr, W, Ir. Ideal para aplicaciones FE-SEM, EDS/WDS, TEM, EBSD.
Evaporador Térmico de Alto Vacío - DTE
Evaporador Térmico de Alto Vacío DTE para investigación y microscopía electrónica. Sistema compacto y rentable para la deposición de materiales en capas finas en condiciones de alto vacío, ideal para metales nobles y oxidantes.
Evaporador Térmico de Escritorio - TDT
Evaporador Térmico de sobremesa DTT para deposición de películas finas al vacío. Capacidades de triple fuente (botes, cestas, bobinas) ideales para películas o aleaciones multicapa. Alcanza la presión de vacío rápidamente, perfecto para investigaciones de laboratorio.
Recubrimiento por pulverización catódica de escritorio con triple magnetrón y alto vacío - DST3-A/S
Recubridor por pulverización catódica de escritorio con objetivo de triple magnetrón y alto vacío DST3 es un recubridor por pulverización catódica de escritorio, de triple objetivo, con bombeo de vacío turbo molecular, adecuado para pulverizar semiconductores, dieléctricos, metales y óxidos metálicos.
Recubridor por pulverización catódica de escritorio con triple magnetrón y alto vacío con evaporador térmico - DST3-TA/S
Recubridor por pulverización de escritorio con triple magnetrón de alto vacío y evaporador térmico DST3-TA/S. Versátil para evaporación térmica y pulverización catódica, cámara de 300 mm, tres cátodos refrigerados por agua de 2", alimentación RF/DC, ideal para diversos materiales.
Evaporador térmico/recubrimiento por pulverización catódica objetivo de doble magnetrón y alto vacío - DST2-TG
Recubrimiento por pulverización catódica/evaporador térmico de doble magnetrón de alto vacío DST2-TG. Unidad compacta para evaporación térmica y pulverización catódica. Control Wi-Fi, pantalla táctil, entorno de alto vacío, ideal para diversos recubrimientos en entornos de guantera.
Sistema de deposición por láser pulsado PLD
Sistema de evaporación térmica y deposición por láser pulsado: PLD-T es un sistema de deposición de película delgada de alto vacío que permite depositar diferentes materiales mediante la técnica de deposición por láser pulsado y de evaporación térmica.
Recubridor de carbón con bombeo turbo y evaporador térmico – DCT-T-300
Recubridor de carbón con bombeo turbo y evaporador térmico: DCT-T-300 está equipado con una cámara grande, lo que lo hace perfecto para preparar...
Recubrimiento de carbón con turbobombeo de escritorio grande – DCT-300
Recubridor de carbón con bombeo turbo de escritorio grande: sistema DCT-300 con una cámara espaciosa, perfecta para preparar muestras...
Sistema de pulverización de magnetrón
El sistema de pulverización catódica por magnetrón ToronSP-400 es un sistema de deposición física de vapor (PVD) tipo caja diseñado con cámaras de vacío prismáticas o cilíndricas...
Sistema de recubrimiento equipado con Load-Lock
El sistema de recubrimiento equipado con Load-Lock ToronTS-450 con cámaras Load-Lock ofrece un procesamiento más rápido y una calidad de recubrimiento superior...
Fuentes de alimentación de CC para generadores de plasma y de pulverización catódica por magnetrón
Las fuentes de alimentación de CC para pulverización catódica con magnetrón y generadores de plasma diseñadas para la pulverización catódica con magnetrón y la generación de plasma ofrecen soluciones confiables tanto para aplicaciones industriales como...
Generadores de plasma de radiofrecuencia RF
Los generadores de plasma de radiofrecuencia RF crean plasma controlado, ideal para la fabricación de semiconductores y el procesamiento de materiales. Estos dispositivos ofrecen un control preciso de la ionización...
Sistemas de limpieza y reacción de plasma
Torontech ofrece sistemas y suministros de plasma avanzados, ofreciendo soluciones de última generación para un procesamiento preciso en múltiples industrias. Nuestro equipo de alta calidad está diseñado...
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